Stefan Fickl, Otto Zuhr, Jamal M.Stein, Markus B. Hürzeler. Int J Oral Maxillofacial implants 2010; 25: 577-581.
Peri-implant bone level around implants with platform-switched abutments
L’objectif de cette étude est d’évaluer la cratérisation autour des implants présentant une connectique de type switching platform par comparaison avec des implants présentant une connection interne classique. Les implants switching platform utilisés sont des implants de 5 mm de diamètre placés en sous-crestal alors que les implants classiques sont de 4 mm de diamètre et placés en juxta-crestal. Après une période de cicatrisation de 3 à 6 mois un second temps chirurgical est entrepris avant mis en place de la prothèse définitive 3 mois après. Des radiographies intra-orales sont prises lors de l’insertion de la prothèse définitive et un an après. La position de l’os contre l’implant est évaluée radiologiquement par rapport au col de cet implants. Cette étude inclus 36 patients ne nécessitant pas de chirurgie osseuse additionnelle sur lesquels ont été posé 75 implants switching-platform et 40 implants classiques sans que l’on sache comment l’allocation des implants a eu lieu (tirage au sort, deux bras différents ou les deux implants ont été posés sur les mêmes patients? On a le sentiment que cette dernière hypothèse soit la bonne). Cette étude conclue que la cratérisation peut être limitée de manière très significative avec le switchng-platform. Les mesures sont de 0,39 mm pour le switching-platform contre 1,00 mm pour la connection classique. Cette étude amène une lecture critique par le faible nombre de patients inclus et par le fait que les critères d’inclusion sont limités à l’absence de nécessité de chirurgie additionnelle. On peut raisonnablement imaginer que des implants distaux ne subiront pas les mêmes contraintes mécaniques que des implants encastrés entre deux dents naturelles ou dans un bridge. La cratérisation liée à ces contraintes ne sera donc pas la même. L’évaluation purement radiographique ne nous semble pas non plus pertinente bien qu’elle soit la plus simple à mettre en Å“uvre. En effet on peut tout à fait avoir une cratérisation autour de l’implant qui est radiologiquement masquée par le versant vestibulaire et palatin/linguale résiduel de la crête surtout pour un implant sous-crestal. Les résultats de cette étude nous semblent n’être que des résultats partiaux à manier avec un esprit critique.